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ASML, 2030년까지 칩 생산량을 50% 늘릴 수 있는 EUV 광원 기술 공개
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- ASML 연구진이 EUV 리소그래피 장비의 광원 출력을 기존 600W에서 *1,000W로 향상* 시키는 기술을 개발, 2030년까지 시간당 칩 생산량을 최대 50% 늘릴 수 있는 돌파구 마련
- 미국과 중국에서 ASML의 EUV 기술에 대한 경쟁자가 등장하는 가운데, 이번 기술 발전은 장비의 가장 난도 높은 부분인 *광원 기술에서의 …
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ASML, 2030년까지 칩 생산량을 50% 늘릴 수 있는 EUV 광원 기술 공개 | GeekNews

ASML 연구진이 EUV 리소그래피 장비의 광원 출력을 기존 600W에서 1,000W로 향상시키는 기술을 개발, 2030년까지 시간당 칩 생산량을 최대 50% 늘릴 수 있는 돌파구 마련미국과 중국에서 ASML의 EUV 기술에 대한 경쟁자가 등장하는 가운데, 이번 기술 발전은 장비의 가장 난도 높은 부분인 광원 기술에서의 우위를 확고히 하려는 시도핵심 기술은

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